Con el objetivo de dar a conocer la reforma a la normativa de Propiedad Industrial, INAPI lanzó un ciclo de seminarios en formato virtual que se realizarán entre los meses de septiembre y noviembre de este año. Los talleres buscan apoyar a los actores del ecosistema de PI y otorgar los conocimientos necesarios para que brinden mejores servicios de asesoría a inventores, universidades, centros de investigación y empresas.
Esto en el marco de la Ley 21.355, que moderniza el sistema de propiedad industrial en Chile y que entrará en vigencia con la publicación de su respectivo reglamento, para lo que existe un plazo de seis meses desde su publicación en el Diario Oficial, que se produjo el 5 de julio de 2021.
El primer seminario fue organizado en colaboración con la Asociación Chilena de Propiedad Intelectual-ACHIPI, instancia en la que participaron más de 80 abogados y socios de la agrupación. En la oportunidad se abordaron las principales medidas que introduce la Ley, entre ellas, la caducidad marcaria y las notificaciones por medio electrónico, que facilitarán la tramitación de los derechos de propiedad industrial.
Otro de los cambios a la normativa que se expuso durante la actividad fue el nuevo concepto de marca comercial. Se trata de la incorporación de diferentes tipos de marcas, a través de una nueva definición conceptual que amplía las posibilidades para los usuarios/as.
También se dio a conocer la introducción de las patentes provisionales, que apunta a evitar que aspectos como la evaluación de patentabilidad o su escalabilidad comercial se conviertan en un freno para proteger las innovaciones.
La finalidad de esta iniciativa propuesta por INAPI, es la difusión de las modificaciones a la Ley, que actualizan los procesos y contribuyen a la armonización de los estándares internacionales en materia de Propiedad Industrial. En las próximas semanas se realizarán jornadas similares para miembros de la Cámara Nacional de Comercio, la Red de Gestores Tecnológicos de Chile y la Asociación Internacional de Marcas- INTA.